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一、2T/H反渗透纯水设备概述：
   工业纯水设备主要是用于工业生产用水的纯水制取装置。工业纯水设备包括反渗透设备、离子交换设备、EDI高纯水设备，用在不同的行业其采用的过滤方法不同，工艺流程也不一样。工业纯水机可以用于：饮用水、瓶装水、食品工业用水、半导体工业、精细化工、光学工业用水、电镀用水、铝氧化用水、化妆品护肤品生产用水、洗手液洗衣液生产用去离子水、洗洗洁精等洗涤剂工业用DI去离子水、医药用水、透析医疗用水、代替各类蒸馏水及超纯水供水等

二、2T/H 反渗透纯水设备在工业生产中的应用：
   纯水在电子工业尤其是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品合格率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途不同，因此对水质的要求也不同。
    在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。

    液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求见表1。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的 80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。

     水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属 (Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2。

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