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EDI高纯水设备
一、EDI高纯水设备说明：
EDI也是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不干净,又利用电渗析极化而发生水电离产生Ｈ和ＯＨ离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,是20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展,EDI技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场。
EDI装置包括阴/阳离子交换膜、离子交换树脂、直流电源等设备。其中阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子通过,而阳离子交换膜只允许阳离子透过,不允许阴离子通过。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元,并构成淡水室。单元与单元之间用网状物隔开,形成浓水室。在单元组两端的直流电源阴阳电极形成电场。来水水流流经淡水室,水中的阴阳离子在电场作用下通过阴阳离子交换膜被去除,进入浓水室。在离子交换膜之间充填的离子交换树脂大大地提高了离子被去除的速度。同时,水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持状态。EDI装置将给水分成三股独立的水流:纯水、浓水、和极水。纯水(90%-95%)为得到的产水,浓水(5%-10%)可以再循环处理,极水(1%)排放掉。
二、EDI高纯水设备工作原理 ：
一般自然水源中都会存在钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐等溶解物。这些化合物由带负电荷的阴离子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透预处理，有95%-99%以上的离子可以被去除。反渗透产水的电阻率一般范围是0.05-1.0兆欧，即反渗透产水电导率的一般范围为20-1μS/cm。根据在实际应用的情况，EDI电去离子产品水电阻率的范围一般为5~18.2 兆欧。另外，原水中也可能包括其它微量元素、溶解的气体（如CO2）和一些弱电解质（如硼、二氧化硅等），这些杂质在工业除盐水中须被除掉。但是反渗透预处理对于这些杂质的去除效果较差。因此，EDI的作用就是除去电解质(包括弱电介质)，将水的电阻率从0.05~1.MΩ/cm提高到5~18.2 MΩ/cm。
三、EDI高纯水设备优点：
1、无需酸碱再生，无化学药剂使用，无酸碱废水排放，生产过程无任何污染，属清洁生产；
2、无需停机再生，连续生产水质稳定的高纯水；
3、运行稳定可靠，降低运行和维修费用；
4、无需派专门人员看守，易于实现设备自动化控制；
5、设备占地面积小，减少车间建设面积，节约场地建设费用投资。
6、控制系统可根据用户具体使用要求进行个性化设计，结合先进的控制软件，现场在线集中监控重要工艺操作参数，避免人工误操作，多方位确保系统长期稳定运行。
四、EDI高纯水设备应用领域 ：
1、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室；
2、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛；
3、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
4、超纯材料和超纯化学试剂；
5、实验室和中试车间；
6、汽车、家电表面抛光处理；
7、光电产品；
8、其他高科技精微产品 。
五、EDI高纯水设备与离子交换设备
A、产水水质比较：
EDI装置是一个连续净水过程，因此其产品水水质稳定，电阻率可达18.25兆欧，达到超纯水的指标。混床离子交换设施的净水过程是间断式的,，在刚刚被再生后，其产品水水质较高，而在下次再生之前，其产品水水质较差。
B、投资量比较
与混床离子交换设备相比EDI装置投资量要高约20%左右，但从混床需要酸碱储存、酸碱添加和废水处理设施及后期维护、树脂更换来看,两者费用相差在10%左右。随着技术的提高与批量生产，EDI装置所需的投资量会大大的降低。另外，EDI装置设备小巧，所需厂房远远小于混床。
C、运行成本比较：
EDI装置运行费用包括电耗、水耗、药剂费及设备折旧等费用，省去了酸碱消耗、再生用水、废水处理和污水排放等费用。
六、EDI高纯水设备安装要求 ：
1、无须专做安装基础，地基坚实水平即可；
2、入水水压如低于0.2Mpa需加装管道泵；
3、使用前需先冲洗管道，避免杂质堵塞阀体，污染树脂；
4、不可用加碘盐、加钙盐作再生剂，定期向盐罐加盐，确保盐水饱和浓度（应保证溶解时间不小于六小时）；
5、设备配置。
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本文关键词: EDI电去离子水设备 半导体行业用去离子高纯水设备 EDI纯水系统
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