真空电镀和镀膜的不同
真空电镀厂基本原理制造工艺不同，真空电镀都是基于电反应原理，在带有需镀金属离子的水溶液通以直流电源，使这些金属离子在负极（工件）得到电子变为金属，附着在镀件上，即是镀层，真空镀都是基于物理气相沉积基本原理，使需镀金属或金属氧化物或铝合金在超高真空下持续高温气化，附着在镀件上；
真空电镀和镀膜的不同
机器设备不同，电镀关键设备是直流电源、镀槽等，真空镀关键设备真空镀膜设备（包括真空室、真空泵等）；常用原料不同，电镀关键原料为各类化工原料和金属材料，真空镀关键原料为金属、过渡金属及铝合金；应用领域和应用领域不同，
电镀还可以在绝大多数金属与非金属中进行，主要运用于金属防护、装饰导电、耐磨等多功能性电镀，真空镀加工目标受限制，比如无法直接在钢材件上镀，真空镀膜非常薄，并不像电镀那般厚，但可以镀得电镀做不到的事情镀层，如金黄色的氮化钛、铝等，用于耐蚀、耐磨、装饰等场所，真空镀由于受到真空室尺寸的限制，不可以镀大型零件，比较之下，电镀受此限定小很多；在安全方面，真空镀比电镀电镀工艺小的多。
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