• 发布日期：2013-11-22
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洁净室中的温湿度控制列举

具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于东莞净化工程公司加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

直径100 um的硅片，温度上升1度，东莞净化工程公司就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。