裸铜箔的应用发展
裸铜箔在70年代初西北铜加工厂首先研究成功了生箔连续生产工艺,并迅速在全国推广。80年代初西北铜加工厂又率先开发了生箔阴极表面处理技术。高性能电解铜箔是一种缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的铜箔。它经过适当的表面处理,在PCB制造中具有高的蚀刻系数、低的残铜率、可避免短路、适用于高频,可制成高密度细线化、薄型化、高可靠性PCB用的铜箔。
90年代期间,裸铜箔随着我国电解铜箔的需求量的迅速增大,我国又有十家左右的铜箔厂家相继建立。尽管我国电解铜箔生产产量在90年代末21世纪初有了相当大的提高,但是在制造技术与产品水平上,和日本、美国相比,还存在着很大的差距。