平面抛光机抛光的温度对整平速度的影响很大

来源：企讯网发布日期：2015-09-14

平面抛光机在对物件进行抛光的时候，平面抛光机抛光的温度对整平速度的影响很大。表现在两个方面：
　　(1)当平面抛光机抛光的温度太低时，对溶解产物的扩散不利;而温度太高时则容易造成表面过热而损伤漆膜。一般情况下，整平转速在1400-1800r/min的范围内时效果最好。
　　(2)在一定的温度范围之内，随着平面抛光机抛光温度的升高，溶解过程加强，漆膜表面的整平速度随温度的升高而加快，但不显著。

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平面抛光机抛光的温度对整平速度的影响很大

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