流体抛光方法是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。
1 磁力研磨抛光方式
磁研磨抛光机是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到 Ra0.1 μ m 。
在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级： AO=Ra0.008 μ m ， A1=Ra0.016 μ m ，A3=Ra0.032 μ m ， A4=Ra0.063 μ m ，由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光、超声波抛光、磁力研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光方式为主。
2 板材抛光机机械抛光方式
所谓的机械抛光就是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，大多采用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量 要求高的可采用超精研抛的方式。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。
3 化学抛光方式
化学抛光工艺是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种抛光方法主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。
4 板材抛光机电解抛光方式
电解抛光的基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为一下两步：
（1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。
（2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。
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