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半导体主要的测试环节:WAT、CP、FT

  • 发布日期:2023-11-27


​半导体生产流程由晶圆制造、晶圆测试、芯片封装、封装后测试组成,而测试环节主要集中在WAT、CP、FT三个环节。


WAT(Wafer Acceptance Test)测试,也叫PCM(Process Control Monitoring),对Wafer 划片槽(Scribe Line)测试键(Test Key)的测试,通过电性参数来监控各步工艺是否正常和稳定。CP(Circuit Probing)也叫“Wafer Probe”或者“Die Sort”,是对整片Wafer的每个Die的基本器件参数进行测试,例如Vt(阈值电压),Rdson(导通电阻),BVdss(源漏击穿电压),Igss(栅源漏电流),Idss(漏源漏电流)等,把坏的Die挑出来,会用墨点(Ink)标记,可以减少封装和测试的成本,CP pass才会封装,一般测试机台的电压和功率不高,CP是对Wafer的Die进行测试,检查Fab厂制造的工艺水平。CP测试程序和测试方法优化是Test Engineer努力的方向。FT(final test)是对封装好的Chip进行Device应用方面的测试,把坏的chip挑出来,FT pass后还会进行process qual和product qual,FT是对package进行测试,检查封装造厂的工艺水平。


总而言之,WAT是在晶圆制造过程中进行的测试,通过对Die与Die之间Scribe Line Test Key电学性能的测试,来监控Fab制程的稳定性;CP测试是制造完成后,封测之前进行的电学测试,把坏的Die标记出来,减少封装的成本;FT是Die切割,打磨,封装后进行器件功能性的测试,可以评价封测厂的封装水平,只有所有的测试都通过后,才可以应用到产品上。


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